6月15日一早，羅晟來到了蔚藍海岸實驗室，今年下半年對于他來說最振奮的消息便是可量產的EUV極紫外光刻機樣機要在這段時間問世了。
    早上8點左右，羅晟來到了蔚藍海岸實驗室的一座22580平方米的無塵工作室內，里面的人全都穿著無塵服才能進入。
    此刻，室內有著一百多個技術人員，都是清一色的頂尖工程師，超過三分之二的人都是來自國內精密制造領域各大公司的技術大拿。
    羅晟通過晟峰資本為紐帶，以光刻機為核心把這股力量于五年前柔和在一起對一個目標發起了長達五年的攻堅戰，這集體一死磕就是長達五年的時間。
    如果沒有晟峰資本的資金扶持，沒有蔚藍海岸的技術支持，這個團隊就不可能成型，更不可能一起死磕一個技術節點。
    “羅總來了！”
    “羅總。”
    “羅總早啊?！?br/>     眾人看到或聽到這話都停止了交流，紛紛看向了出現在這里的羅晟，所有人都對他尊敬有加。
    光刻機模塊太復雜了，精密部件多達數萬個，這意味著需要一個龐大的產業鏈協同，還得需要資本的長期供養并承擔可能血本無歸的風險。
    這幾乎是不可能做到的事情，但羅晟卻讓所有專注于這個領域想要成就一番事業，打破ASML壟斷的人看到了希望，如今更是未來可期。
    其實在2006年的時候就誕生了全球首臺EUV光刻機原型，由ASML推出的，2010年又造出了第一臺研發用樣機NXE3100，這一年也是羅晟發起國產EUV光刻機研發的元年，從這一年開始死磕這個技術痛點。
    而今年，根據外媒消息的報道，ASML在今年也即是2015年也終于造出了可量產的樣機，在這個研發過程中，英特爾、三星、抬積電這些半導體大廠的輸血絕對不少的。
    但是，國產EUV光刻機的研發，在輸血這個問題上，幾乎就是靠羅晟一人供養著，僅憑這份魄力就沒有第二個人敢這么干，因為投入的資金是天量的。
    眾人給羅晟讓開了一條道，他來到了一個透明玻璃隔離墻站著，望著隔離墻內部的景象，此刻一臺精密的設備正在數十個工作人員的操作下進行模塊化組裝。
    “這尺寸間的藝術就是對資本最好的贊美，不枉費我耗時五年燒掉了6000多億人民幣進去?！绷_晟望著內部的景象喃喃自語的說道，光刻機設備的開發進度他還是頗為滿意的。
    這五年來，為了打造國產EUV極紫外光刻機設備，每年都要投入200億美元進去，迄今為止大約1000億美元，這筆錢的出資方是蔚藍海岸和晟峰資本，除此之外沒有第三方了。
    羅晟出錢出技術，其它友商伙伴根據自己所處的領域分到一筆投資資金和相關技術開始圍繞這條產業鏈死磕，能加入這支隊伍的企業，基本都是干實事的。
    當然，也有騙錢的，五年來有十多家廠商騙了羅晟好幾十美元，這些錢算是徹底打水漂了，但這些廠商也被踢出了局，還有人被判了刑。
    這樣的風險在羅晟的可接受范圍內，他也不會真的指望隊伍里就一個壞人都沒有，有壞人不怕，怕是有壞人沒有找出來，不過現在的隊伍是干凈的了。
    他們也許都有自己的小九九，羅晟不指望他們有為事業無私獻身的崇高理想，這也是不現實的烏托邦想法。
    但沒關系，拿市場以及共同的利益維系著就行了，拿到了既得利益就會為這份利益盡心盡力。
    在場的一位來自友商的技術負責人走到羅晟旁邊，“羅先生，光刻機的主要性能指標，支持基片的尺寸范圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等技術痛點目前都已經解決了。”
    羅晟點點頭，問道：“光源系統方面的技術問題呢？”
    對方立即回道：“也基本解決了?！?br/>     羅晟：“基本？那就是還沒完全解決了，盡快解決?！?br/>     值得一提的是，EUV光源系統的組成，光源由光的產生、光的收集、光譜的純化與均勻化三大單元組成，相關的工作元器件主要包括大功率CO2、激光器、多層涂層鏡、負載、光收集器、掩膜版、投影光學系形成等離子體，等離子利用多層膜反射鏡多次反射凈化能譜，從而獲得13.5納米的EUV光。
    僅僅是這么一個光源的問題就要牽涉到了十多家廠商來研發配套，足見這玩意制造難度之高了，僅僅是砸足夠的錢還是次要的，技術更是重要，國內相關的廠商實際上又沒有核心科技。
    但好在羅晟自己掌握的技術再通過小娜的針對EUV光刻機的補全模擬獲得了相應的技術，然后把技術分發給各大廠商按標準制造，同時也把技術授權給他們。
    正因為技術授權這一點，才能把各大廠商維系在一起。
    靠覺悟和理想？
    羅晟雖然喜歡這么說，但他從來不會去這么做。
    否則這么復雜的鏈條，一旦某個環節的廠商鬧情緒大家都干瞪眼，這是羅晟不能允許的發生的事情，投入的資金成本、時間成本、沉沒成本都是天文數字，必須要給他們一點掣肘，否則隊伍就不好帶了。
    關于極紫外光刻機的命名早已經被確定了，代號“紫星光刻機”，這也是國產自主研發不依靠國外技術當時的最先進的光刻機設備。
    紫星光刻機的問世，將宣告著國產光刻機設備與ASML旗下的EUV光刻機處于同一梯隊，徹底打破了頂尖光刻機設備被外國人壟斷的局面。
    羅晟收回目光看向在場的各大廠商派來協同的技術大拿們說道：“紫星光刻機可以使用波長13.5納米的極紫外光，從而實現14納米、10納米、和7納米制程的芯片生產，而通過技術迭代升級，未來也可以實現9納米、8納米、6納米、5納米、4納米乃至3納米等制程的芯片生產?！?br/>     “技術升級方案蔚藍海岸實驗室一直在做，升級迭代必須是協同的，有需要的時候各大供應鏈伙伴來我這里要技術授權分發即可，諸位回去之后順帶把話帶給你們的老總，我就不跟他們一一聯系了?！?br/>     眾人都連連點頭，這種模式簡單的說研發尤其理論端，蔚藍海岸實驗室在做這些。
    供應鏈伙伴負責把羅晟的想法實現，就是把實物按標準造出來，這沒有誰更難一說，都很難，只不過創造性相對難一點。
    要知道，把這些技術交給隔壁的三哥，讓他們照著抄也搞不定，把東西按標準造出實物設備也是要有底子才行，這是制造業的底子。
    ……</br>